近日，在麗水舉行的第七屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(huì)上，來自國內(nèi)外相關(guān)領(lǐng)域的專家學(xué)者、知名企業(yè)家齊聚一堂，共話行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)、前沿成果及創(chuàng)新靈感，為麗水半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)迸發(fā)新的活力帶來全新機(jī)遇。

本次研討會(huì)由中國集成電路創(chuàng)新聯(lián)盟、中國光學(xué)學(xué)會(huì)主辦，中國科學(xué)院微電子研究所和麗水經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)管理委員會(huì)承辦，浙江省國資運(yùn)營公司下屬浙江富浙資本管理有限公司等協(xié)辦。

當(dāng)下，集成電路產(chǎn)業(yè)已經(jīng)成為備受關(guān)注的戰(zhàn)略性產(chǎn)業(yè)，在政策和資本的推動(dòng)下蓬勃發(fā)展?；谶@個(gè)背景，國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(huì)應(yīng)運(yùn)而生，為國內(nèi)外半導(dǎo)體業(yè)界人員提供了一個(gè)重要的交流平臺(tái)。會(huì)上，相關(guān)知名公司、機(jī)構(gòu)、高校的嘉賓，圍繞材料、設(shè)備、工藝、測(cè)量、計(jì)算光刻和設(shè)計(jì)優(yōu)化等領(lǐng)域主題，深入交流分享各自的研究成果，共同探討未來行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)及面臨的挑戰(zhàn)。

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